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中文摘要：
结合光刻印技术和HfO2液相自组装沉积成膜技术，在单晶硅表面成功地制备了具有微米级图案结构的HfO2薄膜，该硅基图案化HfO2微结构近来在工业界特别是微电子领域引起极度的关注。X射线衍射（XRD）与扫描电镜（SEM）显示，在图案区域成功制备了HfO2薄膜，EDS能谱测试显示了图案区域的HfO2薄膜的化学组成。
英文摘要：
Micro-patterned HfO2 films on Si wafers was fabricated by self-assembled monolayers and photolithography technique. This patterned HfO2 microstructures may be widely used in the field of industrial sector, especially the field of microelectronics. XRD and SEM results show that the patterned HfOz thin films were prepared successfully, the chemical composition of HfO2 thin films observed with EDS spectrum test.
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