位置:成果数据库 > 期刊 > 期刊详情页
衬底驱动超低压CMOS带隙基准电压源
  • ISSN号:1000-3819
  • 期刊名称:《固体电子学研究与进展》
  • 时间:0
  • 分类:TN402[电子电信—微电子学与固体电子学]
  • 作者机构:[1]西安电子科技大学微电子研究所,宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室,西安 710071
  • 相关基金:国家自然科学基金(No.60476046,90207022)和国家预研基金(No.51408010601DZ01)资助
中文摘要:

采用二阶温度补偿和电流反馈技术,设计实现了一种基于衬底驱动技术和电阻分压技术的超低压CMOS带隙基准电压源。采用衬底驱动超低压运算放大器作为基准源的负反馈,使其输出用于产生自身的电流源偏置,其电源抑制比(PSRR)为-63.8dB。采用Hspice仿真,在0.9V电源电压下,输出基准电压为572.45mV,温度系数为13.3ppm/℃。在0.8~1.4V电源电压范围内,输出基准电压变化3.5mV。基于TSMC 0.25μm 2P5M CMOS工艺实现的衬底驱动带隙基准电压源的版图面积为203μm×478.1μm。

英文摘要:

Based on bulk driven and resistive subdivision techniques, an ultra-low voltage CMOS bandgap reference using second-order temperature and current feedback techniques is realized. The bulk-driven op amp is applied as the negative feedback of the reference. Its output is used to bias its current sources, leading to a higher power supply rejection ratio (PSRR), that is -63.8 dB. The bandgap reference is simulated by Hspice simulator. Under a 0. 9 V supply, the output voltage of the reference is 572.45 mV, and its temperature coefficient is 13.3 ppm/℃. The variation of the output with supply voltage range of 0. 8~1.4 V is 3.5 mV. Based on TSMC 0.25μm 2P5M CMOS process, the die area of the proposed bulk-driven bandgap voltage is 203μm×478. 1μm.

同期刊论文项目
同项目期刊论文
期刊信息
  • 《固体电子学研究与进展》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国电子科技集团公司
  • 主办单位:南京电子器件研究所
  • 主编:杨乃彬
  • 地址:南京中山东路524号(南京160信箱43分箱)
  • 邮编:210016
  • 邮箱:gtdz@chinajournal.net.cn
  • 电话:025-86858161
  • 国际标准刊号:ISSN:1000-3819
  • 国内统一刊号:ISSN:32-1110/TN
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 中国期刊方阵双效期刊,江苏省第六届优秀期刊,工信部09-10年期刊编辑质量优秀奖
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:2461