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Modulation of atomic-layer-deposited Al2O3 film passivation of silicon surface by rapid thermal proc
  • ISSN号:0003-6951
  • 期刊名称:Applied Physics Letters
  • 时间:0
  • 页码:052103-
  • 相关项目:大直径直拉硅单晶缺陷工程的基础研究
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