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基区不同Ge组分分布的多指SiGeHBT热学特性
  • ISSN号:1003-353X
  • 期刊名称:《半导体技术》
  • 时间:0
  • 分类:TN322.8[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]北京工业大学电子信息与控制工程学院,北京100124
  • 相关基金:基金项目:国家自然科学基金项目(60776051,61006044,61006059);模拟集成电路国家重点实验室基金项目(51439010804QT0101);北京市自然科学基金项目(4082007);北京市教委科技发展计划项目(KM200710005015,KM200910005001);北京市人才强教深化计划一服务北京创新人才培养项目(0020005412A001);北京市优秀跨世纪人才基金项目(67002013200301)
中文摘要:

基于半导体器件仿真工具SILVACOTCAD,研究了三种常见的基区Ge组分分布(矩形、梯形和三角形)对多指功率SiGe异质结双极型晶体管(HBT)的热学特性的影响。结果表明,基区Ge组分为梯形分布和三角形分布的多指SiGeHBT的增益随温度变化比较平缓,各发射极指的峰值温度明显小于矩形分布的各指峰值温度,器件纵向和表面温度分布也更加均匀,因此,与矩形分布相比,梯形分布和三角形分布的多指SiGeHBT在热学特性上有了很大的改善,电学特性也相对热稳定。在这三种结构中,梯形分布可以更好地兼顾增益特性和热学特性。

英文摘要:

The effects of three kinds of Ge profile (box, trapezoidal and triangular Ge-profile) in the base region on thermal characteristics of multi-finger SiGe heterojunction bipolar transistors (HBTs) were investigated by using of SILVACO TCAD simulator. It is found that the variation of gain for SiGe HBTs with the trapezoidal or triangular Ge profile in the base region is slower with the increase of temperature and the peak temperature at the each emitter finger is lower than that for multi-finger SiGe HBT with the box Ge profile. The surface temperature distribution of these two devices is more uniform. Therefore, the thermal characteristics of the SiGe HBTs with the trapezoidal or triangular Ge profiles are improved obviously, the electronic characteristics are more thermally stable. Besides, the trapezoidal Ge profile can make a better trade-off for the requirement of Ge profile between the gain characteristics and the thermal characteristics.

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期刊信息
  • 《半导体技术》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国电子科技集团公司
  • 主办单位:中国电子科技集团公司第十三研究所
  • 主编:赵小玲
  • 地址:石家庄179信箱46分箱
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  • 国际标准刊号:ISSN:1003-353X
  • 国内统一刊号:ISSN:13-1109/TN
  • 邮发代号:18-65
  • 获奖情况:
  • 中文核心期刊,中国科技论文统计用刊
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘(网络版),美国剑桥科学文摘,英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
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