位置：成果数据库 > 期刊 > 期刊详情页
Role of atomic transverse migration in growth of diamond-like carbon films
  • ISSN号：1674-1056
  • 期刊名称：《中国物理B：英文版》
  • 时间：0
  • 分类：O55[理学—热学与物质分子运动论;理学—物理]
  • 作者机构：[1]The State Key Laboratory of Tribology, Tsinghua University, Beijing 100084, China
  • 相关基金：Project supported by the National Natural Science Foundation of China （Grant Nos 50390060 and 50675111） and the State Key Development Program for Basic Research of China （Grant No 2003CB716201）.
作者： 马天宝[1], 胡元中[1], 王慧[1]
关键词： 原子横断转移, 分子动力学, 碳元素, 物理学, diamond-like carbon, molecular dynamics
中文摘要：

E-mail： mtb03@mails.tsinghua.edu.cn

同期刊论文项目
超低摩擦机理中跨尺度及复杂性问题的研究
期刊论文 14
先进电子制造中的重要科学技术问题研究
期刊论文 339 会议论文 107 著作 6
同项目期刊论文
基于原子运动模型的类金刚石薄膜生长机理研究
Role of atomic transverse migration in growth of diamond-like carbon films
Microstructural and stress properties of ultrathin diamond-like carbon films during growth: Molecula
Molecular dynamics simulations of atomic-scale friction in diamond-silver sliding system
Formation of linear carbon chains during the initial stage of nanostructured carbon film growth
Transition of frictional states and surface roughness effects in lubricated contacts
碳纳米管与石墨基底间摩擦耗散的分子动力学模拟研究
Si表面间水平碳纳米管束的分子动力学模拟研究
弹性接触中的表面微滑问题及数值求解
溅射靶功率对氮化碳薄膜结构的影
CMP of hard disk substrate usi
大直径硅晶片化学机械抛光及其终
铜化学机械抛光中的平坦化问题研
单晶硅片超精密加工表面/亚表面
硅片超精密磨床的发展现状
化学机械抛光中的硅片夹持技术
Progress in material removal m
Atomic scale deformation in th
沉积参数对碳氮化硅薄膜化学结构
超精密表面抛光材料去除机理研究
Formation and tribology proper
GMR硬盘磁头自由磨粒抛光PTR的研
Raman Microspectroscopy Study
Effects of nano-scale particle
Exploring micropolar effects i
Repulsion mechanism of nanopar
Optimal design of micro- force
GMR硬盘磁头的超精密抛光工艺
Deposition of Silicon Carbon N
Simulations on atomic-scale fr
纳米颗粒固液二相流实时观测
Comparative Study of Fluid Dis
“Spectral Approximation Based
某磁头抛光技术
Multigrid technique incorporat
Corrosion Inhibiting Effect on
大尺寸硅片自旋转磨削的试验研究
时变点胶系统的建模与控制.
Reliability of Test Lands Targ
硅片化学机械抛光中表面形貌问题
化学机械抛光中纳米级薄膜流动
GMR硬盘磁头抛光的超声波作用机
The investigation of contact r
Rare earth effect on the micro
利用荧光技术对二氧化硅胶体旋转
PH值和浓度对CeO2抛光液性能影响
Features of machine variables
磁盘润滑膜的结构和铺展特性研究
Modeling and Analyzing on Nonu
表面力仪中等色序条纹( FECO) 精
磁头表面含氟硅烷自组装的制备和
Towards a Deep Understanding o
高性能全自动RFID电子标签倒封装
中等粒度纳米金刚石抛光陶瓷表面
基于模型的时间-压力点胶过程控
一种实用的时间-压力点胶过程建
Analysis on contact and flow f
中间层液体的表面能对粘着行为中
The crystallographic change in
Effect of impact angle and sub
粘着行为中预压紧力和分离速度及
液体介质对解理云母粘着特性影响
热超声倒装键合过程中的非线性动
浮动块研磨抛光机研磨磁头的表面
GDS-820数字存储示波器控制软件
化学机械抛光中纳米颗粒的作用分
化学机械抛光中抛光液流动的微极
纳米粒子与单晶硅表面碰撞的反弹
基于前馈补偿的SPWM矩阵变换器控
考虑抛光垫特性的CMP流动性能
计算机硬盘基片的亚纳米级抛光技
微波ECR全方位离子注入制备类金
微波ECR等离子体增强磁控溅射制
碳含量对碳氮化硅薄膜化学结构和
单壁碳纳米管在石墨基底上运动的
含纳米粒子溶液对单晶硅表面的冲
基于原子运动模型的类金刚石薄膜
解理云母表面粘着特性的实验
中等粒度纳米金刚石用于磁头抛光
不同温度对热超声键合工艺连接强
键合时间对粗铝丝超声引线键合强
化学机械抛光特性的应力偶模拟
磁盘润滑膜全氟聚醚的分子动力学
Modeling chemical mechanical p
Analysis of Ring-shaped Bond P
Master-slave synchronization o
Ultra Precision Polishing of G
Study of Molecular Dynamics Si
压力约束模式下的热超声倒装键合
等离子切割多参数智能决策与控制
大直径硅片超精密磨削技术的研究
大尺寸硅片背面磨削技术的应用与
基于工控机和VC的点阵布胶
Structure and tribology proper
基于原子运动模型的类金刚石薄膜生长机理研究
沉积参数对碳氮化硅薄膜化学结构及光学性能的影响
粘着行为中预压紧力和分离速度及相对湿度对分离力影响的实验研究
基片温度对SiNx薄膜结晶状态及机械性能的影响
微波ECR磁控溅射制备SiN_x薄膜的XPS结构研究
Ultra-thin a-SiNx protective overcoats for hard disks and read/write heads
柔性微抓取器的机构分析及设计优化
基于布尔可满足性的逻辑电路等价性验证方法
用布尔可满足性验证逻辑电路的等价性
化学机械抛光中抛光垫作用分析
CMP中接触与流动关系的分析
基于自组装膜的多壁碳纳米管模板化沉积
高加速度运动和精确定位臂的振动主动控制
超薄类金刚石膜生长和结构特性的分子动力学模拟
基于多线程技术的双直线电机同步驱动系统控制研究
Molecular dynamic simulation of lubricant spreading： effect from the substrate and endbead
润滑膜全氟聚醚的稳定性
微波ECR等离子体增强磁控溅射制备SiNx薄膜及其性能分析
脉冲偏压电弧离子镀TiO2薄膜的力学与光学性能
单壁碳纳米管在石墨基底上运动的分子动力学模拟
一种时变非线性系统的自适应逆控制仿真
多芯线束压接拓扑与性能的分形几何关系
劈刀运动历程对热超声键合界面变形的影响
基于静压气浮导轨的直线电机高性能工作台的研制
汽车电子连接器的力学机理研究——截面针型连接器设计参数的灵敏度分析
含纳米粒子溶液对单晶硅表面的冲蚀磨损损伤实验研究
粘度对含纳米粒子溶液冲蚀单晶硅表面的磨损影响
脉冲偏压电弧离子镀室温沉积非晶TiO2薄膜
硅基底上图形化自组装膜的构筑
Patterned deposition of multi-walled carbon nanotubes on self-assembled monolayers
Analysis on contact and flow features in CMP process
Structure and Tribology Property of Carbon Nitride Films Deposited by MW-ECR Plasma Enhanced Unbalanced Magnetron Sputtering
脉冲偏压对电弧离子镀非晶氧化钛薄膜性能的影响
Tribological properties of diamond-like carbon films deposited bv pulsed laser arc deposition
期刊信息
  • 《中国物理B：英文版》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国物理学会和中国科学院物理研究所
  • 主编：欧阳钟灿
  • 地址：北京 中关村 中国科学院物理研究所内
  • 邮编：100080
  • 邮箱：
  • 电话：010-82649026 82649519
  • 国际标准刊号：ISSN：1674-1056
  • 国内统一刊号：ISSN：11-5639/O4
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 国内外数据库收录:
  • 被引量:406