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EBL制备用于气体传感器的SAW延迟线的方法
  • ISSN号:1004-2474
  • 期刊名称:《压电与声光》
  • 时间:0
  • 分类:TN65[电子电信—电路与系统]
  • 作者机构:[1]中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术实验室,北京100029
  • 相关基金:国家自然科学基金资助项目(60825403); 国家重点基础研究发展计划基金资助项目(2009CB939703)
中文摘要:

电子束光刻(EBL)具有高的分辨率,能制备具有亚微米尺寸的声表面波(SAW)器件。一种采用EBL技术制备用于气体传感器的具有亚微米尺寸的SAW延迟线的方法:首先利用EBL在压电衬底上获得叉指换能器(IDT)的电子抗蚀剂图形;然后用剥离工艺制作出IDT电极。通过邻近效应校正和提高场拼接精度,制作的叉指电极具有一致性,电极形貌好。相对于干法刻蚀工艺,剥离工艺避免了对压电衬底表面的物理损伤。该技术为实现特征尺寸达到百纳米级的更高工作频率SAW器件的制造提供了很好的途径。

英文摘要:

Sub-micron surface acoustic wave(SAW) devices can be fabricated by the electron beam lithography(EBL) for high resolution.An approach to fabricate sub-micron SAW delay-line for gas sensors by using EBL and metal lift-off was presented as follows: first to get interdigital transducer(IDT) resist pattern on the piezoelectric substrate by EBL;then to obtain IDT electrodes using metal lift-off.By the correction of proximity effect and the improvement of field splicing accuracy in EBL,consistent and well-structured IDT was obtained.Compared with the dry etching,the metal lift-off process avoids physical damages on the substrate surface.This is a good method for the fabrication of higher frequency SAW devices with hundred-nanometer feature size.

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期刊信息
  • 《压电与声光》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国电子科技集团公司
  • 主办单位:中国电科第二十六研究所
  • 主编:胡少勤
  • 地址:重庆南坪花园路14号26所
  • 邮编:400060
  • 邮箱:ydsgsipat@163.com
  • 电话:023-62919570
  • 国际标准刊号:ISSN:1004-2474
  • 国内统一刊号:ISSN:50-1091/TN
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 1984年获电子部优秀科技期刊三等奖,1990年获电子行业优秀科技期刊三等奖,1990年获首届机电部优秀科技期刊二等奖,1990年获首届四川省优秀科技期刊二等奖,1991年获首届国防科技工委优秀科技期刊二等奖,1992年获第二届机电部优秀科技期刊三等奖,1992年获第二届四川省优秀科技期刊二等奖,1993年获第一届全国优秀科技期刊三等奖,1995年获首届四川省宣传部、省新闻出版局、省期刊...,1995年获四川省第三届优秀科技期刊二等奖,1995-1996年获信息产业部电子优秀科
  • 国内外数据库收录:
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