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退火处理对ZnO/Si异质结光电转换特性的影响
  • ISSN号:1005-023X
  • 期刊名称:《材料导报》
  • 时间:0
  • 分类:TN304.21[电子电信—物理电子学] TQ164.8[化学工程—高温制品工业]
  • 作者机构:[1]洛阳师范学院物理与电子信息学院,洛阳471022, [2]中国科学技术大学物理系,合肥230026
  • 相关基金:国家自然科学基金(50532070);中国科学院三期创新项目(KJCX3.5YW.W01)
中文摘要:

采用直流反应溅射方法在P型Si(100)衬底上生长掺Al的ZnO薄膜,并研究退火处理对ZnO薄膜性质的影响。XRD测量结果表明,ZnO薄膜为六方纤锌矿结构,退火后薄膜的晶粒长大,晶界减少;暗态I-V特性曲线表明,ZnO/Si异质结具有明显的整流特性,退火后由于晶粒间界减少和空位浓度降低使反向漏电流降低1个量级;此外,退火处理能在一定程度上改善异质结的光伏效应,使其转换效率提高。

英文摘要:

ZnO films doped with A1 is prepared on p type Si (100) substrates by DC reactive sputtering. Influence of annealing treatment on photovohaic property of ZnO/Si heterojunction is investigated. XRD results demonstrate that the ZnO films has hexagnal wurtzite structure with strong c axis orientation, and crystal grain becomes larger by annealing. I-V characteristics suggest that heterojunction show apparently rectifying behavior, and reverse leak current reduces one order of magnitude by annealing. It is worthy to emphasize that the photovohaic convertion efficient is also improved obviouly.

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期刊信息
  • 《材料导报:纳米与新材料专辑》
  • 主管单位:重庆西南信息有限公司(原科技部西南信息中心)
  • 主办单位:重庆西南信息有限公司(原科技部西南信息中心)
  • 主编:
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  • 国际标准刊号:ISSN:1005-023X
  • 国内统一刊号:ISSN:50-1078/TB
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