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ULSI 制造中硅片化学机械抛光的
  • 期刊名称：半导体学报, 2005, 26(3): 606-612
  • 时间：0
  • 相关项目：超精抛光中纳米行为和化学作用及平整化原理技术
作者： 苏建修，郭东明，康仁科，金洙吉
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期刊论文 69 会议论文 8
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