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p-InGaN与Ni/Au的欧姆接触特性研究
  • ISSN号:1000-3819
  • 期刊名称:固体电子学研究与进展
  • 时间:0
  • 页码:87-90
  • 语言:中文
  • 分类:TN304[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]北京工业大学光电子技术实验室 北京工业大学光电子技术实验室 北京 100022
  • 相关基金:国家973计划(2006CB604902);; 北京市人才强教计划项目(05002015200504);; 北京市教委项目(kz200510005003);; 北京市科委重点项目(D0404003040221);; 国家自然科学基金(60506012);; 十五国家科技攻关项目(2003BA316A01-01-08)
  • 相关项目:单芯片白光发光二极管机理及其关键技术的研究
中文摘要:

通过对不同厚度的p-InGaN样品进行环形传输线欧姆接触实验,发现p-InGaN与Ni/Au的比接触电阻随InGaN层厚度的增大而增大,且当InGaN层的厚度小于某一特定值时,其比接触电阻低于p-GaN与Ni/Au的欧姆比接触电阻,通过分析认为这是由InGaN层的极化效应导致接触势垒降低和载流子隧穿几率增大造成的,但同时受样品表面形貌和InN本身固有的积累电子层的特性影响,当InGaN层的厚度超过这一特定值后其接触特性反而比p-GaN差。

英文摘要:

By conducting the experiments of circular transmission line method(CTLM)on samples with different thicknesses of p-InGaN,we find that the specific contact resistance between p-InGaN and Ni/Au increases as the thickness of InGaN increases.When the thickness of InGaN is less than a certain value,the specific contact resistance between p-InGaN and Ni/Au is lower than that of p-GaN s.It is attributed to the situation that the tunneling barrier width is drastically reduced by polarization-induced electric fields...

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期刊信息
  • 《固体电子学研究与进展》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国电子科技集团公司
  • 主办单位:南京电子器件研究所
  • 主编:杨乃彬
  • 地址:南京中山东路524号(南京160信箱43分箱)
  • 邮编:210016
  • 邮箱:gtdz@chinajournal.net.cn
  • 电话:025-86858161
  • 国际标准刊号:ISSN:1000-3819
  • 国内统一刊号:ISSN:32-1110/TN
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 中国期刊方阵双效期刊,江苏省第六届优秀期刊,工信部09-10年期刊编辑质量优秀奖
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:2461