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隧道再生半导体激光器内部温度场的三维分布
  • ISSN号:1007-4252
  • 期刊名称:《功能材料与器件学报》
  • 时间:0
  • 分类:TN248.4[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]北京工业大学光电子技术实验室,北京100022, [2]北京跟踪与通信技术研究所,100022
  • 相关基金:基金项目:国家重点基础研究发展计划资助(批准号:2006CB604902),国家“863”计划(批准号:2004AA311030),十五国家科技攻关项目(批准号:2003BA316A01-01-08),国家自然科学基金(批准号:60506012),北京市科委重点项目(批准号:130404003040221),北京市教委项目(批准号:kz200510005003),北京市人才强教计划项目(05002015200504).
中文摘要:

针对隧道再生半导体激光器,建立了内部热源分布模型,利用有限元方法模拟计算了两有源区隧道再生半导体激光器瞬态和稳态三维温度分布。瞬态模拟结果表明,加电后几个S的时间内两个有源区的温升很小,在几个S到几十个ms的时间内温度上升很快,几百个ms以后温度达到稳态,与测量结果吻合。稳态模拟结果表明,稳态时温升集中在脊形电极内,靠近衬底的有源区温度始终高于靠近热沉的有源区的温度。沿腔长方向存在温差,在光反射腔面附近温度下降较快。芯片内最高温度出现在靠近衬底有源区的光出射腔面的脊形电极中心。

英文摘要:

A model of Heat source is presented for tunnel regeneration semiconductor laser diodes. Three - dimensional transient and steady - state temperature - distribution of the laser diode with two active regions is simulated by using the finite element method. It is found that the temperature increase of the active regions is small during the initial several microseconds. In the range between several microseconds and some ten milliseconds the temperature of the active regions increases significantly. At some hundred milliseconds a steady- state thermal distribution is nearly reached. It is in agreement with the measured data. The temperature of two active regions is the highest initially, but the temperature of the tunnel junction increase rapidly and is higher than the temperature of the active region close to the heat sink finally. The temperature of the rear facet increases much slowly fnr the asymmetric packaging along the resonator.Steady - state temperature distribution present that temperature of the active region close to the substrate is higher than that of the active region close to the heat sink, but the temperature difference is less than O. 3K. The highest temperature is in the stripe center of the front emitting facet of the active region close to the substrate.

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期刊信息
  • 《功能材料与器件学报》
  • 北大核心期刊(2011版)
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国材料研究学会 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
  • 主编:邹世昌
  • 地址:上海市长宁路865号
  • 邮编:200050
  • 邮箱:jfmd@mail.sim.ac.cn
  • 电话:021-62511070
  • 国际标准刊号:ISSN:1007-4252
  • 国内统一刊号:ISSN:31-1708/TB
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 美国Ei,美国CA,英国SA,俄罗斯PЖ的文献源期刊,中国科技论文统计源期刊、中国科学引文数据库来源期刊,中国学术期刊综合评价数据库来源期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版)
  • 被引量:3051