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中文摘要：
为了从中枢神经系统记录电信号，半导体加工技术已经被用于微电极探针的制造．介绍了一种硅基探针的设计和制造工艺流程．我们已经制造出15μm厚，3mm长，100μm宽的记录用探针，每根探针含有7个记录点，间隔120μm在制造过程中使用微机械系统（MEMS）212艺中常用的硅表面微加工工艺：等离子增强化学气相淀积（PECVD），感应耦合等离子刻蚀（ICP）以及硅的各向异性刻蚀等．测试结果给出了探针的强度和阻抗特性．
英文摘要：
Semiconductor processing techniques are being utilized to fabricate multichannel microelectrode probes for recording neural signals from central nervous system. This paper presents the design and detailed fabrication process flow of the microelectrode probe. Probes 20μm thick, 3mm long and with shanks 100μm wide have been fabricated. There are seven recording sites on each shank with 120μm spacing. The following silicon surface-micromachining process were used to fabricate the probe： plasma enhanced chemical vapor deposition （PECVD）, inductively coupled plasma （ICP） etch and anisotropic etch of silicon. The test result shows the performance characteristics of the probe.
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