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闪耀光栅制备工艺与结构保真性研究
  • ISSN号:1004-2474
  • 期刊名称:压电与声光
  • 时间:2011.4.4
  • 页码:536-539
  • 分类:TB332[一般工业技术—材料科学与工程]
  • 作者机构:[1]机械制造系统工程国家重点实验室,陕西西安710049, [2]西安交通大学机械工程学院,陕西西安710049
  • 相关基金:国家高新技术“八六三”基金资助项目(2009AA042330);新世纪优秀人才支持计划基金资助项目(NCET-10-0643);国家自然科学基金资助项目(90923001)
  • 相关项目:纳米制造中的计量溯源与测试理论研究
中文摘要:

针对气体检测中分光应用的闪耀光栅,该文在硅片上制备聚甲基丙烯酸甲脂(PMMA)薄膜,采用热压印及后续工艺制备了硅基的聚甲基丙烯酸甲脂闪耀光栅,通过实验分析研究了复制闪耀光栅的保真特性。研究表明,通过聚甲基丙烯酸甲脂制备、热压印及后续工艺可得到具有高保真性的微闪耀光栅,而这种方法所获得的闪耀光栅与传统方法加工的闪耀光栅相比,在效率、成本方面均具有较明显的优势。

英文摘要:

For the wavelength division applications to the gas measurement, the Si-based PMMA flash grating has been fabricated through preparing PMMA film on Si substrate by using the hot-embossing lithography (HEI.) and the follow-up processes in this work. The fidelity of the duplicated flash grating has also been studied and analyzed by experiment. The results showed that the micro flash grating with high fidelity could be obtained by preparing PMMA film and using the HEL as well as the follow-up processes. The reported flash grating has significant cost-effective advantage over the conventional flash grating.

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期刊信息
  • 《压电与声光》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国电子科技集团公司
  • 主办单位:中国电科第二十六研究所
  • 主编:胡少勤
  • 地址:重庆南坪花园路14号26所
  • 邮编:400060
  • 邮箱:ydsgsipat@163.com
  • 电话:023-62919570
  • 国际标准刊号:ISSN:1004-2474
  • 国内统一刊号:ISSN:50-1091/TN
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 1984年获电子部优秀科技期刊三等奖,1990年获电子行业优秀科技期刊三等奖,1990年获首届机电部优秀科技期刊二等奖,1990年获首届四川省优秀科技期刊二等奖,1991年获首届国防科技工委优秀科技期刊二等奖,1992年获第二届机电部优秀科技期刊三等奖,1992年获第二届四川省优秀科技期刊二等奖,1993年获第一届全国优秀科技期刊三等奖,1995年获首届四川省宣传部、省新闻出版局、省期刊...,1995年获四川省第三届优秀科技期刊二等奖,1995-1996年获信息产业部电子优秀科
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘(网络版),波兰哥白尼索引,荷兰文摘与引文数据库,美国剑桥科学文摘,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
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