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Modeling and experiments of high-pressure VHFSiH4/H-2 discharges for higher microcrystalline silicon
  • ISSN号：0040-6090
  • 期刊名称：Thin Solid Films
  • 时间：0
  • 页码：6829-6833
  • 语言：英文
  • 相关项目：采用二维自适应流体模型对高速率微晶硅生长机理的研究
作者： E. Amanatides|F. R. Zhang|Y. Zhao|D. Mataras|X. D. Zhang|
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