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含Ni-Al阻挡层硅基BiFe0.95Mn0.05O3铁电电容器的结构及物理性能
  • ISSN号：1000-985X
  • 期刊名称：《人工晶体学报》
  • 时间：0
  • 分类：O646.1[理学—物理化学;理学—化学]
  • 作者机构：[1]河北大学物理科学与技术学院,保定071002
  • 相关基金：国家自然科学基金（60876055 11074063）资助项目; 河北省自然科学基金（E2008000620）资助项目; 河北省应用基础研究计划重点基础研究项目（10963525D）; 高等学校博士点基金（20091301110002）
作者： 陈剑辉[1], 刘保亭[1], 魏大勇[1], 王宽冒[1], 崔永亮[1], 王英龙[1], 赵庆勋[1], 韦梦袆[1]
关键词： BiFe0.95Mn0.05O3, NI-AL, 阻挡层, 漏电机制, BiFe0.95Mn0.05O3, Ni-Al, barrier layer, leakage mechanism
中文摘要：

以Ni-Al为阻挡层,在Si衬底上构架了SrRuO3（SRO）/BiFe0.95Mn0.05O3（BFMO）/SRO异质结电容器。X射线衍射（XRD）分析表明：Ni-Al阻挡层为非晶结构,BFMO薄膜为具有良好结晶质量的多晶结构。在5 kHz测试频率下,SRO/BFMO/SRO电容器呈现饱和的电滞回线。实验发现,SRO/BFMO/SRO铁电电容器具有良好的抗疲劳性能。漏电机制研究表明,外加电场小于210 kV/cm时,SRO/BFMO/SRO电容器满足欧姆导电机制,在电场大于210kV/cm时,满足空间电荷限流传导机制。

英文摘要：

SrRuO3（SRO）/BiFe0.95Mn0.05O3（BFMO）/SRO heterostructure capacitors were fabricated on Si substrates using Ni-Al as the barrier layer between Si and SRO.X-ray diffraction（XRD） reveals that the Ni-Al barrier is amorphous,while well-crytallinized BFMO film is polycrystalline.A good saturated hysteresis loop coude be obtained from the SRO/BFMO/SRO ferroelectric capacitor at 5 kHz.The experiment results show that BFMO capacitor possesses very good fatigue-resistance.The leakage mechanism of the SRO/BFMO/SRO ferroelectric capacitor was studied.SRO/BFMO/SRO capacitor satisfied the ohmic conduction behavior at applied fields lower than 210 kV/cm and bulk-limited space-charge-limited conduction（SCLC） at the applied fields higher than 210 kV/cm.

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期刊信息
  • 《人工晶体学报》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国建材工业协会
  • 主办单位:中国硅酸盐学会 晶体生长与材料专业委员会 中材人工晶体研究院
  • 主编：余明清
  • 地址：北京市733信箱
  • 邮编：100018
  • 邮箱：
  • 电话：010-65492963 65492968 65493320
  • 国际标准刊号：ISSN：1000-985X
  • 国内统一刊号：ISSN：11-2637/O7
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 1997年获国家科技优秀期刊,获部级优秀科技期刊奖,中国期刊方阵“双效”期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘（网络版）,荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊（2004版）,中国北大核心期刊（2008版）,中国北大核心期刊（2011版）,中国北大核心期刊（2014版）,中国北大核心期刊（2000版）
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