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沉积温度对BiFeO_3薄膜结构和性能的影响
  • ISSN号：1000-985X
  • 期刊名称：《人工晶体学报》
  • 时间：0
  • 分类：O484[理学—固体物理;理学—物理]
  • 作者机构：[1]河北大学物理科学与技术学院,保定071002
  • 相关基金：国家自然科学基金（60876055 11074063 10774036）资助项目; 河北省自然科学基金（E2008000620 E2009000207 E2008000631）资助项目; 河北省应用基础研究计划重点项目（10963525D）; 高等学校博士点基金（20091301110002）资助项目
作者： 赵庆勋[1], 魏大勇[1], 王宽冒[1], 马继奎[1], 刘保亭[1], 王英龙[1]
关键词： 脉冲激光沉积, 沉积温度, 铁酸铋薄膜, pulsed laser deposition, deposition temperature, BiFeO3 film
中文摘要：

采用磁控溅射法制备SrRuO3（SRO）薄膜、脉冲激光沉积法制备BiFeO3（BFO）,构架了Pt/SRO/BFO/SRO/SrTiO3（001）异质结,采用X射线衍射仪（XRD）、铁电测试仪研究了沉积温度对BFO薄膜结构和性能的影响。研究结果表明,随着温度的升高,BFO（001）和（002）衍射峰强度逐渐增强,BFO（110）和Bi2O3衍射峰强度逐渐减小,不同沉积温度下生长的样品都具有铁电性,在800 kV/cm的电场下,640℃下生长的BFO薄膜的剩余极化强度为65μC/cm2。采用数学拟合的方法研究了Pt/SrRuO3/BiFeO3/SrRuO3/SrTiO3的漏电机理,结果表明BFO薄膜导电机理为普尔-弗兰克导电机理。

英文摘要：

Pt/SrRuO3（SRO）/BiFeO3（BFO）/SRO/SrTiO3 heterostructure had been fabricated on SrTiO3（001） substrate,in which SRO and BFO thin films were deposited by RF magnetron sputtering and pulsed laser deposition,respectively.The effect of deposition temperature on the structural and properties of BFO thin film were investigated by X-ray diffraction（XRD） and a ferroelectric tester.It is found that as deposition temperature increasing,the intensities of BFO（001） and（002） peaks increase gradually,while BFO（110） and Bi2O3 peaks decrease.BFO films deposited at different temperatures possess saturated hysteresis loops.The remanent polarization of the BFO film prepared at 640 ℃ is 65 μC/cm2,which is measured at the electric field of 800 kV/cm.The leakage conduction mechanism of BFO film was investigated,and it was found that the Poole-Frenkel emission is dominant conduction mechanism.

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期刊信息
  • 《人工晶体学报》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国建材工业协会
  • 主办单位:中国硅酸盐学会 晶体生长与材料专业委员会 中材人工晶体研究院
  • 主编：余明清
  • 地址：北京市733信箱
  • 邮编：100018
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  • 国际标准刊号：ISSN：1000-985X
  • 国内统一刊号：ISSN：11-2637/O7
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 1997年获国家科技优秀期刊,获部级优秀科技期刊奖,中国期刊方阵“双效”期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘（网络版）,荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊（2004版）,中国北大核心期刊（2008版）,中国北大核心期刊（2011版）,中国北大核心期刊（2014版）,中国北大核心期刊（2000版）
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