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电子束重复增量扫描曝光方式的反应机理研究
  • ISSN号：1003-8213
  • 期刊名称：《微细加工技术》
  • 时间：0
  • 分类：TN305.7[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构：[1]山东大学,控制学院,电子束研究所,济南,250061 山东大学,控制学院,电子束研究所,济南,250061 东营职业学院,山东东营,257091 山东大学,控制学院,电子束研究所,济南,250061
  • 相关基金：国家自然科学基金重大研究计划资助项目(90307003);国家自然科学基金资助项目(10572078);山东省自然科学基金资助项目(Y2003G03);山东省科技攻关计划基金资助项目(022090105)
作者： 卢文娟[1], 张玉林[1], 孔祥东[1], 郝惠娟[1]
关键词： 电子束光刻, 微三维加工, 辐射降解, 聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)
中文摘要：

从高分子辐射化学的角度分析了电子束曝光的实际反应机理,推导得出曝光辐射剂量与辐射降解程度间的关系,提出了重复增量扫描方式的电子束微三维加工方法.通过在SDS-3型电子束曝光机上对正性抗蚀剂PMMA进行曝光实验,显影后得到轮廓清晰的三维结构,验证了该方法的可行性.

英文摘要：

The practical reaction mechanism of electron beam lithography is analyzed based on macromolecule radiation chemistry and the relationship of the exposure radiation dose with radiation scission degree is deduced. Then the overlapped increment scanning is proposed as a new method of three-dimensional microfabrication. The exposure experiments are made in SDS-3 electron beam lithography system. After the development, the clear three-dimensional microstructures are obtained. So this method can be used in the three-dimensional microfabrication.

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期刊信息
  • 《微细加工技术》
  • 主管单位:信息产业部
  • 主办单位:中国电子科技集团公司第48研究所
  • 主编：伍三忠
  • 地址：长沙市第96号信箱301分箱（长沙黑石铺）
  • 邮编：410111
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  • 电话：0731-2891478
  • 国际标准刊号：ISSN：1003-8213
  • 国内统一刊号：ISSN：43-1140/TN
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  • 中文核心期刊,国家一级检索刊物用刊
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  • 荷兰文摘与引文数据库
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