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基于干涉显微原理的表面形貌测量系统
  • ISSN号:1003-501X
  • 期刊名称:《光电工程》
  • 时间:0
  • 分类:TH741.3[机械工程—光学工程;机械工程—仪器科学与技术;机械工程—精密仪器及机械]
  • 作者机构:[1]华中科技大学数字制造装备与技术国家重点实验室,武汉430074, [2]武汉光电国家实验室光电材料与微纳制造研究部,武汉430074, [3]中北大学电子测试技术国家重点实验室,太原030051
  • 相关基金:国家自然科学基金资助项目(50535030);国家“973”计划资助项目(2003CB716207);国家“863”计划资助项目(2006AA4Z325);新世纪优秀人才支持计划资助项目(NCET-06-0639)
中文摘要:

根据光学干涉显微法原理,设计开发了一套微纳结构表面形貌测量系统。该系统采用林尼克干涉显微镜,通过参考镜扫描的方法将扫描器与相移器集为一体,分别采用五步相移算法和基于采样定理的包络均方函数(SEST)算法实现相移干涉法(PSI)和垂直扫描干涉法(VSI)两种模式对微纳结构的表面形貌测量。为验证该系统性能,采用标准多刻线样板和标准台阶作为样件对VSI和PSI两种模式分别进行了测量实验。结果证明,该系统能够完成微纳结构表面形貌的快速精确测量,可以满足微电子、微机电系统中微纳结构的表面形貌测量要求。

英文摘要:

A profilometer was developed for micro-nano structure profile testing on the basis of interferometry and micro vision system. A Linik interferometer was adopted in this profilometer, in which the scanner and the phase shifter were integrated through scanning the reference mirror. The five-step phase-shift algorithm was selected for Phase Shift Interferometry (PSI) mode and the Squared-Envelope function estimation by Sampling Theory (SEST) algorithm was selected for Vertical Scanning Interferometry (VSI) mode. The experiments that used a standard multi-indents structure and a standard step structure to test PSI mode and VSI mode respectively verified that the profilometer could measure the profile of the micro-nano structure quickly and accurately, and be applied in the measurement of micro-electronics and micro electronic mechanic system.

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期刊信息
  • 《光电工程》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国科学院光电技术研究所 中国光学学会
  • 主编:罗先刚
  • 地址:四川省成都市双流350信箱
  • 邮编:610209
  • 邮箱:oee@ioe.ac.cn
  • 电话:028-85100579
  • 国际标准刊号:ISSN:1003-501X
  • 国内统一刊号:ISSN:51-1346/O4
  • 邮发代号:62-296
  • 获奖情况:
  • 四川省第二次期刊质量考评自然科学期刊学术类质量...,四川省第二届优秀期刊评选科技类期刊三等奖
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:14003