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退火温度对Tb催化GaN纳米棒的影响
  • ISSN号:1671-4776
  • 期刊名称:《微纳电子技术》
  • 时间:0
  • 分类:TN304.23[电子电信—物理电子学] TB383[一般工业技术—材料科学与工程]
  • 作者机构:[1]镇江机电高等职业技术学校信息电子工程系,江苏镇江212016, [2]山东师范大学半导体研究所,济南250014
  • 相关基金:国家自然科学基金项目(90301002 90201025)
中文摘要:

用稀土金属铽(Tb)作催化剂,通过磁控溅射和退火氨化法成功制备出大量单晶GaN纳米棒,并研究退火温度对GaN纳米棒表面形貌、晶体质量和发光特性的影响。扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和光致发光谱(PL)测试结果显示,随着退火温度的升高,纳米棒的直径和长度增大,结晶质量先变好后变差,PL测试发现了位于369nm处的强发光峰和387nm处的弱发光峰,其发光强度随退火温度的升高先增强后减弱,发光峰的位置并不改变,进而得出了制备GaN纳米棒的最佳退火温度为950℃。利用高分辨透射电子显微镜(HRTEM)对950℃下制备的样品进行检测,结果显示样品为六方纤锌矿结构的单晶GaN纳米棒。

英文摘要:

Large-scale single crystal GaN nanorods were synthesized successfully by magnetron sputtering and anneal amination with rare earth metal Tb as the catalyst.The effects of the annealing temperature on the surface shape,crystal quality and the luminescent characteristic of GaN nanorods were researched.The synthesized samples at different annealing temperatures were characterized by scanning electron microscopy (SEM),X-ray diffraction (XRD) and photoluminescence (PL).The results show that the diameter and length of nanorods increase,the crystal quality meliorates firstly and then goes to the bad with the continuous rise of annealing temperature.PL shows a very strong emission peak at 369 nm and a weak emission peak at 387 nm.The two peaks become firstly intense,and then weaken with the annealing temperature rising,and their locations don't change.The optimum annealing temperature is 950 ℃ to synthesize GaN nanorods.High-resolution transmission electron microscopy (HRTEM) was used to test the sample synthesized at 950 ℃.The result shows that the samples are hexagonal wurtzite single-crystal GaN nanorods.

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期刊信息
  • 《微纳电子技术》
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  • 国际标准刊号:ISSN:1671-4776
  • 国内统一刊号:ISSN:13-1314/TN
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  • 2002-2003和2003-2004年度,均获信息产业部电子科...,2005-2006年度获信息产业部电子科技期刊学术技术...,中国学术期刊执行(光盘版)检索与评价数据规范优...,2007-2008年度又荣获工业和信息化部电子科技期刊...
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国剑桥科学文摘,英国科学文摘数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版)
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